【原创发布】真空蒸发镀膜原理_真空蒸发镀膜对真空度有什么要求
一、真空蒸发镀膜原理 真空蒸发镀膜是一种常用的表面处理技术,通过将材料加热至高温,使其蒸发并沉积在待镀物表面,形成一层薄膜。其原理主要包括以下几个方面。 1.1 蒸发源 真空蒸发镀膜的关键是蒸发源,通常使用电阻加热或电子束加热的方式将材料加热至蒸发温度。蒸发源应具有稳定的蒸发速率和均匀的蒸发分布,以保证薄膜的均匀性。 1.2 气体分子运动 在真空环境下,气体分子的平均自由程增大,分子间碰撞的概率减小。当气压降低到一定程度时,分子之间的碰撞可以忽略不计,分子运动呈现直线运动。这样可以有效减小薄膜